双 DPDT 模拟开关
Obsolete
NLAS44599 是一种先进的 CMOS 双刀双掷 (DPDT) 模拟开关,采用硅门极 CMOS 工艺制造。它能实现高速传播延迟和低导通电阻,同时能够保持 CMOS 的低功耗。此 DPDT 控制在完整电源范围(从 VCC 到 GND)内变化的模拟和数字电压。NLAS44599 还可用作四路 2:1 多路复用器/信号分离器模拟开关,带有两个选择引脚,每个引脚控制两个多路复用器/信号分离器。
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